瑞士IMT空間濾波器

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公司簡介

瑞士IMT AG（IMT Masken und Teilungen AG）成立于瑞士格林芬塞（Greifensee），專注于高精度光學組件與微結構加工技術的研發與生產。公司通過精密光刻、蝕刻及薄膜涂層技術，為全球工業、科研及醫療領域提供定制化光學解決方案。其產品以嚴格的工藝控制和穩定的性能著稱，廣泛應用于激光技術、顯微成像及光學檢測等領域。

產品類型

IMT AG的空間濾波器（SF系列）包含以下主要類型：

1.標準空間濾波器：用于光束準直與雜散光過濾。

2.Nipkow盤空間濾波器：專為共聚焦顯微鏡設計的旋轉盤結構。

3.Hartmann板：用于光學系統波前像差檢測。

4.定制化多孔陣列：支持復雜孔徑圖案設計。

5.高密度微孔濾光片：適用于激光模式篩選與光束整形。

主要型號

SF系列涵蓋以下主要型號

SF-2µm：基礎型單孔空間濾波器，孔徑≥2 µm。

SF-NK200：Nipkow盤，孔徑螺旋排列，適配共聚焦成像系統。

SF-HP10：Hartmann板，10×10陣列，用于光學檢測。

SF-MA500：多孔陣列濾光片，支持500通道分光。

SF-Chrome：鍍鉻涂層濾光片，光學密度＞3。

產品介紹

一、標準空間濾波器（SF-2µm）技術參數：

1.基底材料：熔融石英（Fused Silica）、硼硅玻璃（Borofloat）。

2.孔徑范圍：2 µm至500 µm（公差±0.5 µm）。

3.涂層：鉻（Chrome）或IMTBC黑鉻，厚度0.3–10 mm。

4.工作原理：通過微米級孔徑限制光束發散角，濾除高階光學模式，提升激光束質量。

二、Nipkow盤（SF-NK200）技術參數：

1.孔徑排列：螺旋式分布，支持高速旋轉。

2.基底厚度：1.1 mm（D263玻璃）。

3.功能：用于共聚焦顯微鏡照明系統，通過同步旋轉與成像消除背景雜散光。

三、Hartmann板（SF-HP10）技術參數：

1.陣列密度：10×10孔陣，孔徑5 µm。

2.基底：熔融石英，厚度0.5 mm。

3.應用：搭配CCD檢測光學系統像差，適用于激光校正與眼科診斷。

優勢特點

1.高精度加工：孔徑公差控制±0.5 µm，位置偏差＜±0.5 µm。

2.多樣化基底選擇：支持熔融石英、硼硅玻璃等材料，適配不同光學環境。

3.嚴格質量控制：鍍層無缺陷工藝，避免成像噪點或信號干擾。

4.靈活定制：支持孔徑尺寸、陣列密度及涂層類型的個性化需求。

5.長期穩定性：耐高溫、抗激光損傷，適用于高功率激光系統。

主要應用

1.激光光學：激光束準直、模式凈化及焦點優化。

2.顯微成像：共聚焦顯微鏡、熒光顯微系統。

3.光學檢測：波前傳感器、光學元件像差分析。

4.半導體加工：光刻機光束整形與掩模校準。

5.健康監測設備：眼科診斷儀器（如LASIK術前檢測）。

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